名古屋市緑区の皮膚科、美容皮膚科

従来のRF治療は6.78MHzのみ照射し、深部まで十分な熱エネルギーを届けるためには出力を高くする必要があり、それが痛みの原因となっていました。
しかしXERF（ザーフ）は、皮膚浅層への熱効率が良い「6.78MHz」と、深部への深達性に優れた「2MHz」を同時に照射することで、より低い出力でも効率的に深部を加熱することが可能です。
これにより皮膚への刺激を抑えながら、たるみの原因となる深部にしっかりと熱を加えることができるため、痛みを軽減しながらより高いタイトニング効果が期待できます。

2種類の周波数を組み合わせることで、3段階 [Deep][Middle][Shallow]の深さ調整が可能です

• 「Shallow」(6.78MHz):　真皮層
• 「Middle」(6.78MHz):　真皮層~浅層脂肪層
• 「Deep」　(6.78MHz+2MHz):　真皮層~深層脂肪層

3つのモードを使い分けることにより、顔面の部位における解剖学的特性や、加齢に伴う組織形状の変化に応じた、細かい設定が可能となります。

従来の高周波機器の技術では、最初から最後まで大きなエネルギーを使い続けることで痛みが発生していました。
ザーフの特殊技術であり特許取得済みの「Wave Fit Pulse」は、照射時間、休止時間、冷却のタイミングを照射ごとに最適化する独自のパルス制御システムです。
単純に同じ強さで5回程度照射していた従来のRFと違い、ザーフは肌表面の温度を感知し、3〜12まで１０段階でパルス数を可変して出力します。

また、従来の連続照射と違い、各パルスごとに肌表面を冷却してから高周波を照射することで皮膚への急激な温度上昇を防ぎます。
これにより大きなエネルギーを照射しても一点に集中する熱エネルギーが分散され、痛みが軽減されます。

ハンドピースには高度な安全機能が備わっており、内蔵された温度センサーにより皮膚の温度をモニタリングし、表面温度が一定を超えると照射が停止されるため安全性が高いのも特徴です。

XERFの電極チップは、独自のスパイダーパターンにより、チップの端へのエネルギー集中を防ぎRFエネルギーを均一化。熱傷の発生を抑えます。